50 Jahre mit Moore’s Law

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Bild 2: Im Prozessschritt Lithografie wird lichtempfindlicher Lack, sogenannter Photolack auf den sich drehenden Wafer aufgebracht Bild: Intel Corporation
Bild 2: Im Prozessschritt Lithografie wird lichtempfindlicher Lack, sogenannter Photolack auf den sich drehenden Wafer aufgebracht und getrocknet. Im Anschluss belichtet man die gewünschte Struktur mit UV-Licht. An den Stellen, an denen der Photolack dem UV-Licht ausgesetzt ist, härtet er aus. Nicht ausgehärtete Bereiche können durch einen nass-chemischen Ätzprozess entfernt werden. Die lackfreien Schichten werden durch Ionenbeschuss dotiert, um die erforderlichen Halbleiter-Eigenschaften zu realisieren.
Bild 2: Im Prozessschritt Lithografie wird lichtempfindlicher Lack, sogenannter Photolack auf den sich drehenden Wafer aufgebracht