Die Zahlen sprechen für sich: Dank deutlich verbesserter Skalierung und CMOS-Platzierung haben Kioxia und Western Digital ihre gemeinsam entwickelten 3D-Flash-Speicher massiv aufgewertet.
Meilenstein: die sechste Generation der 3D-Flash-Speichertechnologie von Kioxia und Western Digital.
Die Architektur der sechsten Generation der 3D-Flash-Speichertechnologie von Kioxia und Western Digital verfügt im Vergleich zur fünften um eine bis zu 10 Prozent höhere Dichte von Speicherzellen in der Schichtung. In Kombination mit der lateralen Skalierung auf 162 Schichten von Speicherzellen ermögliche dies eine 40-prozentige Reduzierung der Chipgröße gegenüber den gängigen Einheiten mit 112 Schichten. Die Zahl der Bits pro Wafer liege im Vergleich zur Vorgängergeneration um 70 Prozent höher.
Die Entwickler der beiden Firmen platzierten zudem die CMOS-Schaltkreise unterhalb der Speicherzellen („Circuit under Array“) und nutzten ein Design mit vier Speicherbereichen. Die Schreibleistung erhöhe sich um den Faktor 2,4, die Leselatenz hingegen verringere sich um 10 Prozent. Die Input/Output-Performance verbessert sich laut Herstellerangaben ebenfalls, und zwar um 66 Prozent.
Größere Kapazitäten auf kleineren Chips
„Während das Mooresche Gesetz quer durch die Halbleiterindustrie an seine physikalischen Grenzen stößt, ist es in einem Bereich weiterhin relevant – und zwar bei Flash-Speichern“, heißt es aus dem Strategiebüro von Western Digital. Dank der eigenen Konstruktion aus vertikaler wie lateraler Skalierung seien somit größere Kapazitäten auf kleineren Chips möglich.
Die erfolgreiche Partnerschaft von Kioxia und Western Digital beläuft sich mittlerweile bereits auf über 20 Jahre. Das Joint-Venture habe längst „konkurrenzlose Forschungs-, Entwicklungs- und Fertigungsfähigkeiten aufgebaut“, betont Kioxias Technikabteilung. Gemeinsam produziere man „mehr als 30 Prozent der weltweiten Flash-Speicher-Bits“.
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